共同研发第5代光刻机，也即是ArFi浸没式DUV光刻机！

        这第5代光刻机如果研发完成，那么我大夏将会成为世界第二个能生产第5代浸没式光刻机的国度。

        也代表着我大夏将会拥有生产90纳米与65纳米芯片的能力。”

        面对夏科院陆院长的话语，现场绝大部分记者自然是一脸懵逼。

        无他，光刻机这东西的知识实在是太深奥了，没有了解过半导体与了解过光刻机的人自然是对啥是第5代浸没式光刻机并不了解。

        浸没式光刻机是当前世界最先进的光刻机，虽然它本质上仍然是AeF干式光刻机，采用的光源波长仍然是193nm。

        但193nm光源波长经过水的折射之后，光源波长能降低到134nm，最终拥有更加精细的加工能力。

        就像本来一把粗糙的刀口变得更加细小，所以浸没式光刻机技术相当神奇。

        堪称能化腐朽为神奇，能用取巧的办法省掉无数功夫，也省下了无数的钱财。

        然而面对如此神奇的技术林晨其实并不怎么满意，因为如果光刻机其他零件精度与加工精度乃至零件质量技术能做得好。

        那相当于134nm光源波长浸没式光刻机理论上是能加工7纳米制程工艺的芯片，但理论是理论实际是实际。

        因为光刻机并不是你将光源波长做到134nm，然后靠着134nm光源波长最小能生产7纳米芯片的能力就能生产7纳米芯片。

        光刻机它是一个整体，光刻机一共有数万个精密零件，任何一个零件或系统的不足都会影响最终的光刻精度。

        就比如你有一把加工精度达到7纳米级别的激光刻刀，有了它理论上你可以刻画精度达到7纳米级别的艺术品。

        但实际当你拿到那激光手术刀后，你会发现刀是好刀，但自己握着激光刻刀的手一直乱抖乱动，根本就控制不了7纳米的雕刻精度。

        而且更头疼的是你会发现你的眼睛看不清楚7纳米的东西，就算通过对焦能看清到7纳米的东西，

        但如果你的手轻微动一下，那会愤怒地发现自己又看不到7纳米级别的东西了，你需要反复地对焦。

        而且最头疼的是就算手不抖了，眼睛也看好了，你会发现你的身体体质其实并不太好。

        往往工作一段时间就要休息一下，让人家维修更换身体零件。

        而别人呢，能连续工作几年都没啥事，而你往往一两个月就必须检修更换零件，这身子骨对比别人真是相当的弱。

        所以就算你有了加工精度达到7纳米的激光手术刀，但你却做不到那样的雕刻精度，一把好刀在你手上蒙尘了。

        在这种情况下，这也是浸没式光刻机能做到7纳米级别的理论加工精度。

        结果夏科院陆院长却声称能达到90纳米与65纳米芯片的原因。

        之所以号称能做到90纳米与65纳米，而不是号称能做到最高7纳米。

        这是因为以大夏的材料技术与加工精度最高只能65纳米，更进一步已经没办法了。

        想要突破需要大夏的加工精度或材料技术与检测技术全部达标才行，而这也是前世为什么高端光刻机为什么那么难突破的原因。

        所以前世高端光刻机那么难突破除了光刻机专利壁垒因素之外，更重要的原因是大夏材料技术与加工精度技术与检测技术不达标。